정부가 반도체 초미세 공정의 핵심 장비인 EUV(극자외선) 노광장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화합니다. 

산업통상자원부는 2026년 6월 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비를 기존 '고압가스 일반제조시설'이 아닌 '특정설비'로 전환하여 관리하는 「고압가스 안전관리법 시행령」 일부개정안이 의결되었다고 밝혔습니다. 이번 개정안은 차주 중 공포 후 즉시 시행될 예정입니다.  

그간 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함되어 있어 설치할 때마다 복잡한 기술검토와 허가, 중간·완성검사 등 총 34일의 기간이 소요되어 기업들에게 부담이 되어왔습니다. 그러나 이번 특정설비 전환 조치에 따라 해외 공인검사기관의 내압·기밀 검사(중간검사) 등이 생략되면서, 장비 도입 소요기간이 9일로 최대 25일 단축됩니다. 

아울러 장비당 약 5억 원에 달하던 해외 검사비용도 절감되어 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들의 첨단 제조장비 적기 도입과 초격차 유지에 크게 기여할 것으로 기대됩니다.  

한편, 이번 개정안에는 반도체 규제 완화 외에도 친환경 비즈니스를 지원하는 규제 합리화 내용이 함께 포함되었습니다. 물과 세제 대신 이산화탄소를 사용하는 친환경 '액화 이산화탄소 세정설비'의 국내 최초 상용화를 위한 맞춤형 검사기준이 신설되었으며, 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 자격요건 및 선임기준을 현실에 맞게 완화하여 산업 현장의 운용 부담을 경감할 수 있도록 했습니다.  

(* 산업통상부의 보도자료 전문은 첨부파일 원문에서 확인할 수 있습니다.)